• 简体   /   繁体
Micro-OLED显示斜纹Mura的研究及改善-科技创新与应用2024年26期

Micro-OLED显示斜纹Mura的研究及改善

作者:杨宗顺 李世鹏 苏冬冬 李云龙 杨盛际 黄寅虎 单庆山 何云川 陶雄 字体:      

摘  要:硅基微显示(Micro-OLED)工艺中,在进行驱动线路制备时,需进行化学机械研磨(CMP)处理,保证金属互联层的稳定性及均一性。不同材料对CMP工艺的耐受性存在差别,切割道或净空区通常为介电材料层(SiO(试读)...

科技创新与应用

2024年第26期